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【什么是光刻胶概念 什么是光刻胶】1、光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料 。
2、光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类 。在光刻胶工艺过程中,涂层曝光、显影后,曝光部分被溶解,未曝光部分留下来,该涂层材料为正性光刻胶 。如果曝光部分被保留下来,而未曝光被溶解,该涂层材料为负性光刻胶 。
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