蒸发镀膜原理 真空蒸发镀膜原理


蒸发镀膜原理 真空蒸发镀膜原理

文章插图
1、蒸发镀膜:通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为蒸发镀膜 。这种方法最早由M.法拉第于1857年提出,现代已成为常用镀膜技术之一 。
【蒸发镀膜原理 真空蒸发镀膜原理】2、蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比,具有较高的沉积速率,可镀制单质和不易热分解的化合物膜 。为沉积高纯单晶膜层,可采用分子束外延方法 。