ASML没料到!绕开EUV光刻机技术出现,我国EUV核心部件也实现突破( 二 )
这个消息ASML是最不想看到的 , 因为一旦成功 , 它的EUV光刻机可不一文不值了 。不过 , 这项技术要生产高端芯片还需要几年时间 , 只能看后续发展情况如何了 。ASML要面对的还不只是这个问题 , 还有我国正在大力攻坚EUV , 并且又有新突破 。
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EUV光刻机不卖给我们 , 我们就只有一条路 , 那就是突破它 。虽然一直以来我们听到的都是 , EUV光刻机有很多零件、很多种技术 , 不是一个国家能够造出来的 , 但实际上最关键的部件和技术也就那么几个 , 况且我们不是从头做起 , 早就已经布局 。
近日 , 我国的光刻机研发就取得一项新的突破 , 长春光机所成功突破了光刻机核心部件“光学投影物镜”制造关键技术 。这项技术意义十分重大 , 它可是制造EUV光刻机的最核心的四大模块之一 , 它的突破将使我们的国产EUV光刻机更进一步 。
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之前经常有人说 , 没有任何一个国家可以单独制造出EUV光刻机 。荷兰ASML也曾放言 , 即使给我们图纸我们也造不出EUV光刻机 。但恐怕要让他们失望了 , 没有我们中国人办不到的事 。并且ASML总裁都已经改口 , 15年时间内中国将会突破所有 。但相信我们根本用不了那么长时间 , 就一定会突破 , 彻底解决芯片卡脖子!
来源:科技强哥说
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